Plan de cours :


1. Introduction : évolution de la technologie µelectronique, Loi de Moore...

2. Bibliothèque de CI.

3. Calcul des dessins de masques de C.I. : cas de la capa MOS .

4. Séquences de fabrication CMOS (Masques et règles de dessin d'une technologie CMOS,« process »)

5. Séquences de fabrication Bipolaire (dessin de masques et « process »)

6. Technologie 3D (En plus du programme mais très intéressant)