Plan de cours :
1. Introduction : évolution de la technologie µelectronique, Loi de Moore...
2. Bibliothèque de CI.
3. Calcul des dessins de masques de C.I. : cas de la capa MOS .
4. Séquences de fabrication CMOS (Masques et règles de dessin d'une technologie CMOS,« process »)
5. Séquences de fabrication Bipolaire (dessin de masques et « process »)
6. Technologie 3D (En plus du programme mais très intéressant)
1. Introduction : évolution de la technologie µelectronique, Loi de Moore...
2. Bibliothèque de CI.
3. Calcul des dessins de masques de C.I. : cas de la capa MOS .
4. Séquences de fabrication CMOS (Masques et règles de dessin d'une technologie CMOS,« process »)
5. Séquences de fabrication Bipolaire (dessin de masques et « process »)
6. Technologie 3D (En plus du programme mais très intéressant)
- Enseignant: Saida LASSOUED